Püskürtme, ince film malzemeleri hazırlamak için kullanılan ana tekniklerden biridir. Vakumdaki birikimi hızlandırmak için iyon kaynağı tarafından üretilen iyonları kullanır ve yüksek hızlı iyon ışını oluşturur, katı yüzeyi bombardıman eder ve katı yüzeydeki atomlar katı yüzeyde bırakarak katı yüzeyde bırakacak şekilde iyonlar ve atomlar arasında kinetik enerji alışverişi yapar. taban yüzeyi ve bombalandı. Vurucu katı, püskürtme hedefi olarak adlandırılan püskürtme püskürtmeli ince filmlerin hazırlanmasında kullanılan hammaddedir.
appliction
Püskürtme hedefleri temel olarak entegre devreler, bilgi depolama, likit kristal ekran, lazer bellek, elektronik kontrol cihazları vb. Gibi elektronik ve bilgi endüstrilerinde kullanılır. Ayrıca cam kaplama, aşınmaya dayanıklı malzemeler, cam kaplama alanında da kullanılabilirler. sıcaklık korozyon direnci, yüksek kaliteli dekoratif ürünler ve diğer endüstriler.
sınıflandırma
Şekle göre kare hedefe, dairesel hedefe ve anormal hedefe ayrılabilir.
Bileşime göre, metal hedef, alaşım hedef ve seramik bileşik hedefine bölünebilir.
Uygulama alanına göre mikroelektronik hedef, manyetik kayıt hedefi, CD-ROM hedefi, kıymetli metal hedefi, ince film direnci hedefi, iletken film hedefi, yüzey modifiyeli hedefi, optik maske hedefi, dekoratif katman hedefi, elektrot hedefi ayrılabilir , paketleme hedefi ve diğer hedef.
Yüksek saflıkta ve hatta ultra yüksek saflıkta metal malzemeler, yüksek saflıkta püskürtme hedef malzemeleri üretmenin temelidir. Örnek olarak, yarı iletken yongalar için püskürtme hedef malzemelerinin alınması, püskürtme püskürtme malzemelerinin safsızlık içeriğinin çok yüksek olması durumunda, oluşan film istenen elektriksel performansı karşılayamaz ve partiküller püskürtme işlemi sırasında kolayca oluşturulabilir, böylece kısa devre meydana gelir veya devre kaybı. Kötü, filmin performansını ciddi şekilde etkiler.
