Supttering Hedefini anlıyor musunuz - Bilgi - Xi'an Econ Industrial Corp.

Supttering Target'ı anlıyor musunuz?

Supttering Target malzemesinin ana performans gereksinimleri:

Saflık
Saflık, Supttering Target malzemesinin ana performans göstergelerinden biridir, çünkü hedef malzemenin saflığı filmin performansı üzerinde büyük bir etkiye sahiptir. Ancak, pratik uygulamalarda, hedef malzemelerin saflık gereksinimleri farklıdır.
Kirlilik içeriği
Hedef katılardaki safsızlıklar ve stomada oksijen ve su, biriken ince filmlerin ana kirlilik kaynaklarıdır. Farklı amaçlar için hedeflerin farklı kirlilik içeriği için farklı gereksinimleri vardır. Örneğin, yarı iletken endüstrisinde kullanılan saf alüminyum ve alüminyum alaşımı hedefleri, alkali metallerin ve radyoaktif elementlerin içeriği için özel gereksinimlere sahiptir.
Yoğunluk
Hedefin içindeki gözenekliliği azaltmak ve saçılmış filmin performansını arttırmak için genellikle hedefin yüksek bir yoğunluğa sahip olması gerekir. Hedef yoğunluk sadece püskürtme hızını değil aynı zamanda filmlerin elektriksel ve optik özelliklerini de etkiler. Hedef yoğunluk ne kadar yüksek olursa, filmlerin özellikleri o kadar iyidir. Ek olarak, hedefin yoğunluğunun ve gücünün arttırılması, hedefin püskürtme işleminde termal gerilime daha iyi dayanmasını sağlayabilir. Yoğunluk, hedef malzemelerin kilit performans göstergelerinden biridir.
Tane Büyüklüğü ve Tane Büyüklüğü Dağılımı
Genellikle, hedef malzeme polikristalindir ve tane büyüklüğü mikron ila milimetre arasında değişebilir. Aynı hedef için, ince taneli hedefin püskürtme hızı, kaba taneli hedeften daha hızlıdır ve hedef tarafından biriktirilmiş filmin küçük tanecik ebadı farkıyla (eşit dağılım) kalınlık dağılımı daha homojendir.

Molibden hedefi, titanyum hedefi, tantal hedefi ve niyobyum hedefi üretmek ve satmak konusunda uzun yıllara dayanan firmamız Avrupalı ve Amerikalı müşteriler tarafından büyük beğeni topladı.

Paketleme

packing.